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0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड

Product Details

उत्पत्ति के प्लेस: डेयांग, चीन

ब्रांड नाम: Porous

प्रमाणन: ISO9001

मॉडल संख्या: झरझरा निकल

Payment & Shipping Terms

न्यूनतम आदेश मात्रा: 5 टुकड़े

मूल्य: negotiable

प्रसव के समय: 5 से 8 कार्य दिवस

भुगतान शर्तें: टी/टी

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Product Details
प्रमुखता देना:

2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड

,

0.15 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड

,

एईएम जीडीएल गैस विसारण परत

उत्पाद का नाम:
झरझरा निकल
सामग्री:
शुद्ध निकल
उत्पादन प्रक्रिया:
उच्च तापमान सिंटरिंग
मोटाई:
0.15-2.0 मिमी
सरंध्रता:
30-50%
प्रसंस्करण विधि:
लेजर काटना
आवेदन:
एईएम हाइड्रोजन उत्पादन
उत्पाद का नाम:
झरझरा निकल
सामग्री:
शुद्ध निकल
उत्पादन प्रक्रिया:
उच्च तापमान सिंटरिंग
मोटाई:
0.15-2.0 मिमी
सरंध्रता:
30-50%
प्रसंस्करण विधि:
लेजर काटना
आवेदन:
एईएम हाइड्रोजन उत्पादन
Product Description

0.4 मिमी मोटी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम इलेक्ट्रोलाइटिक सेल गैस प्रसार परत जीडीएल

 
पूरी तरह से स्वतंत्र बौद्धिक संपदा अधिकारों के साथ एईएम हाइड्रोजन उत्पादन के लिए कोर सामग्री स्वतंत्र रूप से बोर्सेमाई द्वारा विकसित की गई है।
इसकी तैयारी की मुख्य प्रक्रिया हैः

 
0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 0
 
विशेषताएंः
1. छिद्रों के आकार और छिद्रता दोनों को नियंत्रित किया जा सकता है;
2ढलान छिद्र संरचना
3. बड़ा विशिष्ट सतह क्षेत्रफल;
4. उत्कृष्ट जल और गैस संचरण प्रदर्शन;
5उत्कृष्ट विद्युत और ताप चालकता;
6उच्च तापमान प्रतिरोध और थर्मल सदमे प्रतिरोध;
7मध्यम संक्षारण प्रतिरोध;
8वेल्डेबल और मशीनीकृत
 
विनिर्देश पैरामीटर

पैरामीटर इकाई निकेल पाउडर फील्ड (एनपीएफ)
सामग्री / शुद्ध निकेल
उत्पादन प्रक्रिया / उच्च तापमान संपीड़न
मोटाई मिमी 0.15-2.0
मोटाई μm ≤30
सतह घनत्व जी/सेमी3 1.2-4.0
सतह की उग्रता μm ≤25
न्यूनतम एपर्चर μm ३-५
औसत छिद्र का आकार μm 12 से 20
पोरोसिटी % 30-50
संपीड़न %2MPa 5-10
तन्य शक्ति KN/50 मिमी 0.8-2.5
चौड़ाई मिमी 500-1000
प्रसंस्करण विधि / लेजर कटिंग
आवेदन / एईएम हाइड्रोजन उत्पादन
रासायनिक संरचना % Ni+Co≥99.8
% Fe≤0.02
% C≤0.03
% S≤0.008
% Si≤0.005
% Cu≤0.001
%  
%  
%  
उपस्थिति / 1. सतह साफ है और एक चांदी के ग्रे धातु चमक है
2कोई दरारें या दिखाई देने वाले काले धब्बे नहीं होने चाहिए।

 
 
0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 1
 
1लचीला और मोड़ने योग्य
2. बड़ा आकार और चौड़ाई
3बहुत कम सतह की रगड़ता
 
0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 2
 
0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 3
 
0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 4
 
0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 5
 
 
लाभः


1गैस प्रसारण परत और झिल्ली इलेक्ट्रोड के बीच संपर्क क्षेत्र में वृद्धि से एक बड़ा सतह क्षेत्र, उच्च वर्तमान घनत्व और अत्यंत कम संपर्क प्रतिरोध होता है।
2झिल्ली इलेक्ट्रोड के छिद्रण को रोकने और इसके जीवनकाल को बढ़ाने के लिए कोई सतह स्पाइक्स नहीं।
3असममित ढांचे में जल वाष्प का उत्कृष्ट संचरण होता है।
4लचीली संरचना, अच्छा आसंजन, छोटा संपीड़न विरूपण, बड़ी चौड़ाई और यादृच्छिक लंबाई।

 

0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 6
0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 7
आवेदनः
एईएम निकेल पाउडर फील्ड डिफ्यूजन परत का उपयोग गैस की इलेक्ट्रोकेमिकल प्रतिक्रिया को बढ़ावा देने के लिए किया जाता है। प्रवाहकीय परत उत्प्रेरक परत और इलेक्ट्रोड सब्सट्रेट को जोड़ने वाली परत है।यह अच्छी चालकता है और प्रभावी ढंग से इलेक्ट्रोड सब्सट्रेट के लिए इलेक्ट्रॉन स्थानांतरित कर सकते हैंनिकेल पाउडर फील्ड गैस प्रसारण परत गैस और तरल पदार्थों को स्थानांतरित करने की भूमिका निभाती है और इसमें गैस प्रसारण का अच्छा प्रदर्शन और तरल पदार्थों की पारगम्यता होती है।निकल पाउडर महसूस गैस प्रसार इलेक्ट्रोड एक बड़े सतह क्षेत्र और उच्च उत्प्रेरक गतिविधि की विशेषता हैउत्प्रेरक की उपस्थिति के कारण, गैस प्रसार इलेक्ट्रोड कम तापमान और दबाव पर गैस की विद्युत रासायनिक प्रतिक्रिया को महसूस कर सकता है,और प्रतिक्रिया की दक्षता और दर में सुधारइसके अतिरिक्त, निकल पाउडर फील्ड गैस प्रसार इलेक्ट्रोड में भी अच्छी स्थिरता और संक्षारण प्रतिरोध है, और जटिल वातावरण में लंबे समय तक स्थिर रूप से काम कर सकता है।
 
0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 8

 

कंपनी प्रोफ़ाइल

सिचुआन छिद्रित प्रौद्योगिकी कं, लिमिटेड एक विशेष कंपनी है जो अनुसंधान और विकास, उत्पादन,और टाइटेनियम और टाइटेनियम मिश्र धातु पाउडर जैसे धातु छिद्रित सामग्री की बिक्री, टाइटेनियम पाउडर फील्ड (टीपीएफ), और निकेल पाउडर फील्ड (एनपीएफ) । कंपनी झोंगजियांग इंटेलिजेंट मैन्युफैक्चरिंग इंडस्ट्रियल पार्क, देयांग शहर, सिचुआन प्रांत में स्थित है,लगभग 5000 वर्ग मीटर के क्षेत्र को कवरकंपनी का मुख्य तकनीकी दल सेंट्रल साउथ यूनिवर्सिटी से आता है, जिसमें प्रथम श्रेणी की अनुसंधान एवं विकास प्रौद्योगिकी टीम और उत्कृष्ट प्रबंधन टीम है।धातु पाउडर के उत्पादन में पेटेंट की गई मुख्य प्रौद्योगिकियों की एक श्रृंखला बनाई गई हैकंपनी "ग्राहकों की जरूरतों को पूरा करने और ग्राहकों की अपेक्षाओं को पार करने" के सिद्धांत का पालन करती है, लगातार प्रगति और निरंतर सुधार करती है।यह धातु पाउडर के अनुसंधान और विकास में विशेषज्ञता वाला एक उच्च तकनीक उद्यम है।कंपनी के मुख्य उत्पादों में एचडीएच टाइटेनियम पाउडर, टाइटेनियम मिश्र धातु पाउडर उत्पाद और छिद्रित धातु उत्पाद शामिल हैं।कंपनी द्वारा उत्पादित टाइटेनियम पाउडर और टाइटेनियम मिश्र धातु पाउडर की वार्षिक उत्पादन क्षमता 200 टन से अधिक है।कंपनी के उत्पादों का व्यापक रूप से पाउडर धातु विज्ञान, टाइटेनियम फिल्टर ट्यूब, 3 डी प्रिंटिंग, एमआईएम इंजेक्शन मोल्डिंग और अन्य क्षेत्रों में उपयोग किया गया हैःटाइटेनियम आधारित लचीला ढाल गैस प्रसार पाउडर महसूस - (टाइटेनियम पाउडर महसूस टीपीएफ), निकेल आधारित लचीला ढाल गैस प्रसार पाउडर महसूस - (निकेल पाउडर महसूस एनपीएफ) 100000 वर्ग मीटर की वार्षिक उत्पादन क्षमता के साथ,हाइड्रोजन ऊर्जा में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है नई ऊर्जा उत्पादन क्षेत्रों जैसे कि हरे हाइड्रोजन (पीईएम), एईएम) उपकरण और कम्पोजिट इलेक्ट्रोड।

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प्रदर्शनी
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ग्राहक संचार

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उत्पादन उपकरण

 

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0.15 मिमी-2 मिमी छिद्रित निकेल फील्ड एईएम जीडीएल गैस डिफ्यूजन लेयर सिंटर फील्ड 13

 

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